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美国质疑EUV光刻机已流入中国大陆,ASML回怼:绝无可能

美国商务部长卢特尼克闭门向ASML高管提出担忧:一台EUV光刻机可能已流入中国。ASML坚决否认,并提供技术证据(314台仍在运行、26台已退役、中国境内零台)证明设备无法秘密运输或使用。美方声称握有证据但以机密为由拒绝公开。文章揭示了美荷盟国间出口管制执行力度差异,以及ASML在面临额外监管压力下的商业困境,适合关注半导体产业、地缘政治与科技博弈的读者。原文 ↗

核心观点
  • 美方声称一台ASML EUV光刻机可能已违反出口管制流入中国,但ASML以技术数据和商业逻辑坚决否认,双方陷入举证困境。
  1. 01美国商务部长卢特尼克在2025年4月一场闭门会议中向ASML CEO傅恪礼表达了对EUV设备流入中国的担忧。
  2. 02ASML提供文件显示,全球目前在运行的EUV机器有314台,已退役26台,中国境内数量为零。
  3. 03ASML列举技术阻碍:EUV机器重约180吨,体积如校车,需要其员工持续维护,内置自动检测系统可追踪任何异常中断或连接行为。
  4. 04美方官员声称掌握ASML向中国出口EUV运输设备及相关零部件的证据,但以信息敏感性为由拒绝公开。
  5. 05ASML CEO傅恪礼从商业逻辑上反驳:“你无法逆向工程一台你从未拥有的机器,而中国大陆没人拥有过它。”
反方 / 局限
  • 美国国会两党法案正寻求进一步限制ASML对华出口,包括有效禁止所有浸没式DUV光刻机,这将影响ASML约20%的预期营收,显示单事件外更广泛的监管压力。
  • 美方证据未公开导致事件陷入“有罪推定”式指控,ASML需要证明一件无法证伪的不存在之事,暴露了举证责任的不对称。
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